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提纯与涂层

purified and coated graphite Mersen

 

用于半导体及光伏行业的高纯度石墨，采用ETV ICP OES方法控制

 

美尔森已经研发了能够显著改善材料物理化学性能的工艺，尤其是针对承受高应力下的高科技应用。

 

    条件苛刻的高科技

    纯度限制：

    • 我们的提纯工艺使我们可以获得极低的杂质含量水平，低于5ppm。
    • 使用ETV-ICP的方法来检测及监测杂质含量水平，保证其低于5ppm。

    清洁度限制：

    • 玻璃碳浸渍（VCI）是为了减少微粒排放和材料的真空放气而开发的，特别适合半导体应用。

    对等离子处理过程中使用试剂的耐受性：

    • 美尔森的产品可以涂上薄薄一层的热解碳，从而将材料的渗透性降到最低，特别适合半导体应用。
    • 为了进一步提高对工艺试剂的耐受性，美尔森提出了用树脂核心浸渍来减少气孔的方法。

    900℃以上具有抗氢性能、耐MOCVD试剂、耐强酸（HCL, HF）

    • 美尔森已经掌握了碳化硅薄膜的沉积工艺，在特别苛刻的环境中为石墨设备提供最佳的保护。

    联络表 法国

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    市场分类

    能源 电子

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